Tính năng của máy quang phổ khối ICP-MS Model PlasmaMS300:

Máy phân tích bốn cực

Tứ cực thông lượng cao (phạm vi khối lượng phân tích: 1-265 amu) có thể đáp ứng đầy đủ nhu cầu phân tích nguyên tố có độ phân giải cao (<0.8 amu).

Thông qua việc ứng dụng công nghệ cung cấp nguồn RF bốn cực hàng đầu thế giới và công nghệ DDS (Tổng hợp tần số kỹ thuật số trực tiếp), nó có thể tự động khớp tần số và mang lại tính ổn định và khả năng bảo trì đáng kể.

Hệ thống chân không

Bơm phân tử turbo hiệu suất cao và bơm cơ học bên ngoài có thể nhanh chóng đạt được độ chân không cao của thiết bị và đảm bảo độ nhạy tín hiệu. Hệ thống điều khiển chân không hoàn toàn tự động có thể đảm bảo tính ổn định lâu dài của hoạt động thiết bị.

Máy phát RF Plasma cảm ứng 27.12 MHz

Bằng cách sử dụng máy phát RF trạng thái rắn có độ ổn định công suất cực cao và thiết kế che chắn tốt, PlasmaMS 300 có thể đảm bảo độ ổn định của nguồn ion và tín hiệu. Ngoài ra, việc áp dụng nền tảng ba chiều được kiểm soát chính xác giúp định vị và hiệu chuẩn đèn tự động.

Chuyển đổi linh hoạt các phương pháp giới thiệu lấy mẫu

Các cổng để ghép nối với các thiết bị lấy mẫu bên ngoài như phương pháp cắt bỏ bằng laser và sắc ký lỏng được cung cấp, không gian lắp ráp cho thiết bị làm mát bán dẫn được dành riêng và có thể chuyển đổi hệ thống lấy mẫu chịu axit HF (Phụ kiện tùy chọn).

Hệ thống va chạm tế bào

Buồng va chạm, được vận hành bởi bộ điều khiển lưu lượng khối hiệu suất cao và phần mềm điều khiển khí, có thể nhanh chóng hoàn thiện mô hình va chạm heli và loại bỏ nhiễu hiệu quả.

Đặc tính sản phẩm:

• Độ tin cậy và ổn định tuyệt vời
  Với nguồn điện RF chắc chắn và bền bỉ, hệ thống chân không có chức năng bảo vệ khẩn cấp và hệ thống điều khiển tự động, cùng thao tác một phím thông minh để hoàn tất phân tích và cấu hình, PlasmaMS 300 loại bỏ sự can thiệp của con người và đảm bảo tính nhất quán và khả năng lặp lại tuyệt vời của thiết bị.

• Khả năng phân tích tuyệt vời
  Nguồn ICP trạng thái rắn có chức năng kết hợp tuyệt vời có thể hạn chế hiệu quả sự khuếch tán ion trong quá trình ion hóa và đảm bảo khả năng hội tụ và tốc độ truyền ion cao. Hệ thống quang học ion có độ lệch có thể đảm bảo hiệu ứng hội tụ ion tối ưu, giảm nhiễu nền hiệu quả và do đó cải thiện tỷ lệ tín hiệu trên nhiễu.

• Công nghệ ghép nối mạnh mẽ
  Nó có thể kết hợp thuận tiện với hệ thống lấy mẫu phá hủy bằng laser (LA) và sắc ký lỏng (LC). Kết hợp với hệ thống LA, PlasmaMS 300 có thể thực hiện lấy mẫu trực tiếp trạng thái rắn và đồng thời xác định hàm lượng các nguyên tố chính, phụ và vết trong các mẫu khí dung. Hệ thống kết hợp này tránh được quy trình chuẩn bị mẫu phức tạp, cải thiện hiệu quả lấy mẫu và thử nghiệm, đồng thời mở rộng khả năng phát hiện của PlasmaMS 300. Kết hợp với LC, nó có thể tiến hành phân tích thành phần các nguyên tố trong các chất hữu cơ, mở rộng hơn nữa khả năng phát hiện và hiệu quả của PlasmaMS 300 và cung cấp các giải pháp ứng dụng toàn diện hơn.

• Quy trình vận hành thân thiện với người dùng
  Cài đặt tham số "Một cú nhấp chuột" trực quan và tiện lợi có thể cải thiện hiệu quả làm việc của người dùng, đồng thời cung cấp định dạng báo cáo do người dùng xác định theo yêu cầu của khách hàng và cung cấp chức năng QC và giao diện LIMS.

• Bảo trì thuận tiện
  Hệ thống quang học ion lệch và nón dễ tháo rời và vệ sinh có thể giảm lắng đọng ion và kéo dài chu kỳ bảo dưỡng của thiết bị. Nguồn ICP trạng thái rắn bền bỉ có thể đảm bảo sử dụng không gặp sự cố trong thời gian dài.

Máy quang phổ khối plasma cảm ứng ICP-MS

Phổ khối plasma cảm ứng ICP-MS là công nghệ phân tích nguyên tố có khả năng phát hiện hầu hết các nguyên tố trong bảng tuần hoàn ở mức miligam đến nanogam trên lít. Công nghệ này được sử dụng trong nhiều ngành công nghiệp bao gồm nhưng không giới hạn ở giám sát môi trường, phân tích địa hóa, luyện kim, phân tích dược phẩm và nghiên cứu lâm sàng.

Máy quang phổ khối ICP-MS Model PlasmaMS300

ICP-MS (Phổ khối plasma cảm ứng) đã trở thành một trong những phương pháp phân tích hiệu quả nhất để phân tích vết và siêu vết nhờ vào giới hạn phát hiện thấp, độ nhiễu thấp, độ chính xác phân tích cao, tốc độ phân tích nhanh, xác định đồng thời nhiều nguyên tố và các khả năng phân tích vượt trội khác.

Qualitest Máy quang phổ khối ICP-MS model Plasma MS300 được thiết kế để đáp ứng nhu cầu về công nghệ phân tích vết trong các lĩnh vực như luyện kim, bảo vệ môi trường, địa chất, khoáng sản và thực phẩm và đặt mục tiêu đáp ứng nhu cầu của các ứng dụng trong ngành công nghiệp.

Nhóm R&D của chúng tôi đã nắm vững các công nghệ chính trong nguồn cung cấp tần số vô tuyến ICP, quang học ion, máy phân tích khối lượng bốn cực và đã phát triển thành công ICP-MS (Máy quang phổ khối plasma cảm ứng) Model PlasmaMS 300. Chúng tôi đã phát triển các phương pháp phân tích và thử nghiệm phù hợp với nhiều ngành công nghiệp khác nhau và giải quyết các vấn đề kỹ thuật như xác định kim loại nặng dạng vết trong môi trường, đất hiếm, phân tích các nguyên tố hiếm và phân tán trong địa chất và

tài nguyên khoáng sản, phân tích các nguyên tố có giá trị và có hại trong tài nguyên thứ cấp, phân tích thành phần hóa học vết và phân bố trong vật liệu kim loại và phân tích thành phần và hóa trị của các nguyên tố độc hại và có hại trong thực phẩm.

Lĩnh vực ứng dụng cho máy quang phổ khối ICP-MS Model PlasmaMS300

Phân tích và thử nghiệm môi trường Các giải pháp ứng dụng có hệ thống và phương pháp phân tích đã được thiết lập với PlasmaMS 300 để đáp ứng các yêu cầu phân tích và thử nghiệm đối với các nguyên tố kim loại nặng trong nước mặt, nước thải, đất, trầm tích, các hạt vật chất trong khí quyển (khí thải), chất thải rắn và các mẫu môi trường.
Kiểm tra mẫu địa chất Là công nghệ mạnh nhất để phân tích đa nguyên tố của các mẫu địa chất, PlasmaMS 300, có độ nhạy cao, độ chính xác tốt và khả năng chống nhiễu mạnh, có thể đáp ứng nhu cầu phân tích đa nguyên tố nhanh chóng và chính xác của các nguyên tố khoáng sản "Ba hiếm" (nguyên tố hiếm, nguyên tố đất hiếm và nguyên tố phân tán hiếm). Nó cung cấp hỗ trợ kỹ thuật cho việc điều tra và sử dụng hiệu quả các nguồn tài nguyên khoáng sản "Ba hiếm".
Vấn đề an toàn thực phẩm PlasmaMS 300 có thể phát hiện hiệu quả hàm lượng nhiều thành phần kim loại trong thực phẩm và vật liệu đóng gói tiếp xúc. Hơn nữa, nếu kết hợp với LC, nó cũng có thể tách hiệu quả các loài và dạng khác nhau của một số thành phần cụ thể, đáp ứng hoàn toàn phân tích dư lượng kim loại nặng, phân loại kim loại nặng và phân tích thành phần dinh dưỡng trong lĩnh vực chất lượng và an toàn thực phẩm.
Nghiên cứu vật liệu kim loại Kết hợp với hệ thống lấy mẫu phá hủy bằng laser được phát triển độc lập (LA 300), PlasmaMS 300 có thể thực hiện phân tích và mô tả đặc điểm phân bố thành phần của các nguyên tố vết trong các vật liệu không phẳng có hình dạng đặc biệt với kích thước nhỏ và phân bố thống kê các nguyên tố vết tại chỗ trong hệ thống vật liệu phức tạp.